等離子體和固體、液體或氣體一樣,是物質(zhì)的一種狀態(tài),也叫做物質(zhì)的第四態(tài)。從通常的能量排布:氣體>液體>固體的角度來說,等離子的能量比氣體更高,能表現(xiàn)出一般氣體所不具有的特性,所以也被稱為物質(zhì)的第四態(tài)。當氣體電離生成電子正離子一般在段時間內(nèi)發(fā)生結合,回到中性分子狀態(tài),這個過程產(chǎn)生的電子、離子的一部分能量以電磁波等不同形式消耗,在分子離解時常生成自由基,生成的電子結合中性原子,分子形成負離子。因此,整個等離子體是電子正負離子激發(fā)態(tài)原子,原子以及自由基的混合狀態(tài)。因為各種化學反應都是在高激發(fā)態(tài)下進行的,與經(jīng)典的化學反應*不同。這樣使等離子體的原子或分子的本性通常都發(fā)生改變,即使是較穩(wěn)定的惰性氣體也會變得具有很強的化學活潑性。等離子體在電磁場的作用下高速運動,沖擊物體表面,起到清洗、刻蝕、活化、改性的目的。
Plasma等離子清洗機的優(yōu)勢:
一、清洗對象經(jīng)等離子清洗之后是干燥的,不需要再經(jīng)干燥處理即可送往下一道工序。可以整個工藝流水線的處理效率;
二、等離子清洗使得用戶可以遠離有害溶劑對人體的傷害,同時也避免了濕法清洗中容易洗壞清洗對象的問題;
三、避免使用三氯乙烷等ODS有害溶劑,這樣清洗后不會產(chǎn)生有害污染物,因此這種清洗方法屬于環(huán)保的綠色清洗方法。這在高度關注環(huán)保的情況下越發(fā)顯出它的重要性;
四、
Plasma等離子清洗機采用無線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同。等離子體的方向性不強,這使得它可以深入到物體的微細孔眼和凹陷的內(nèi)部完成清洗任務,因此不需要過多考慮被清洗物體的形狀。而且對這些難清洗部位的清洗效果與氟利昂清洗的效果像是甚至更好;
五、使用
Plasma等離子清洗機,可以使得清洗效率獲得極大的提高。整個清洗工藝流程幾分鐘內(nèi)即可完成,因此具有產(chǎn)率高的特點;
六、等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa,這種清洗條件很容易達到。因此這種裝置的設備成本不高,加上清洗過程不需要使用價格較為昂貴的有機溶劑,這使得整體成本要低于傳統(tǒng)的濕法清洗工藝;
七、使用Plasma等離子清洗機清洗,避免了對清洗液的運輸、存儲、排放等處理措施,所以生產(chǎn)場地很容易保持清潔衛(wèi)生;
八、等離子體清洗可以不分處理對象,它可以處理各種各樣的材質(zhì),無論是金屬、半導體、氧化物,還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、聚四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可以使用等離子體來處理。因此特別適合于不耐熱以及不耐溶劑的材質(zhì)。而且還可以有選擇地對材料的整體、局部或復雜結構進行部分清洗;
九、Plasma等離子清洗機在完成清洗去污的同時,還可以改善材料本身的表面性能。如提高表面的潤濕性能、改善膜的黏著力等,這在許多應用中都是非常重要的。