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Ossila紫外臭氧清洗機(jī)

簡(jiǎn)要描述:Ossila紫外臭氧清洗機(jī)(UVO),是一種簡(jiǎn)單,經(jīng)濟(jì),快速的材料表面清洗設(shè)備,只需把樣品放置到樣品盤(pán)上,關(guān)上艙門(mén),設(shè)置時(shí)間,并按運(yùn)行,就可以了,能快速去除大多數(shù)無(wú)機(jī)基材(比如石英,硅片,金,鎳,鋁,砷化鎵,氧化鋁等)上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時(shí),紫外清洗非常理想。要獲得超潔凈的表面,只需要在傳統(tǒng)清洗后,再用紫外臭氧清洗幾分鐘就可獲得!

  • 產(chǎn)品型號(hào):L2002
  • 廠(chǎng)商性質(zhì):生產(chǎn)廠(chǎng)家
  • 更新時(shí)間:2024-10-25
  • 訪(fǎng)  問(wèn)  量:3256

詳細(xì)介紹

品牌Ossila/歐西拉產(chǎn)地類(lèi)別進(jìn)口
應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,環(huán)保,化工,農(nóng)業(yè),地礦


紫外臭氧清洗機(jī)UVO)

目前紫外臭氧清洗機(jī)的主要應(yīng)用表面UV光清洗和表面UV光改質(zhì)。

v 表面UV光清洗:利用紫外光以及由其產(chǎn)生的臭氧OZONE,對(duì)有機(jī)物質(zhì)所起的光敏氧化分解作用,以達(dá)到去除粘附在物體表面上的有機(jī)化合物(碳?xì)浠衔铮@得超潔凈的表面。

v 表面UV光改質(zhì):利用紫外光照射有機(jī)表面,在將有機(jī)物分解的同時(shí),254nm波長(zhǎng)的紫外光被物體表面吸收后,將表層的化學(xué)結(jié)構(gòu)切斷,光子作用產(chǎn)生原子氧會(huì)與被切斷的表層分子結(jié)合,并將之變換成具有高度親水性的官能基(如-OH,-CHO,-COOH),從而提高表面的浸潤(rùn)性。

主要應(yīng)用:

  • 石英/玻璃制品的表面清洗:液晶面板,等離子電視屏幕,彩色過(guò)濾片,光罩,棱鏡,透鏡,反射鏡,平板電視等。

  • 微電子產(chǎn)品的表面清洗:微型馬達(dá)軸,磁頭驅(qū)動(dòng)架,光盤(pán),光電器件,手機(jī)攝像頭,微型喇叭/受話(huà)器震膜,半導(dǎo)體硅片,掩膜版。

  • 精密集成電路的表面清洗:液晶顯示器ITO,精密電路板,軟性電路板接頭,BGA基板的清洗,COG的清洗,COF(ILB)接合面的清洗,薄膜基板的清洗,金屬基板的清洗,BGA基板與粘結(jié)墊的清洗。

  • 在膠粘接或是印刷之前,對(duì)高分子聚合制品的表面改性:橡膠粘接,塑料汽車(chē)部件,透鏡保護(hù)膜,塑料薄膜,樹(shù)脂成型空氣袋,IC包裝,注射針接合部份的表面性,介入導(dǎo)管的表面改型等。

  • 科研過(guò)程的表面清洗及處理:半導(dǎo)體,生物芯片,納米材料,聚合物,光化學(xué)等

產(chǎn)品特點(diǎn)

  • 成本低;

  • 120x120mm樣品臺(tái);

  • 大處理樣品高14mm;

  • 抽屜式樣品臺(tái),簡(jiǎn)單方便;

  • 樣品臺(tái)自動(dòng)安全開(kāi)關(guān),打開(kāi)UV自動(dòng)關(guān)閉,防止對(duì)人身傷害;    


  • UVO顯示器

  • LCD屏顯示“已用時(shí)間"和“剩余時(shí)間";

  • 60分鐘定時(shí)器;

  • 高強(qiáng)度UV燈源;

  • 可控溫的樣品臺(tái);

  • 樣品清洗無(wú)需溶劑;

  • 超凈表面。

UVO樣品托盤(pán)

二、技術(shù)參數(shù)

紫外燈類(lèi)型

低壓石英水銀蒸汽燈

紫外線(xiàn)燈的主要波長(zhǎng)

185nm和254nm

UV燈管尺寸

100x100mm

UV燈電源

4000V,30mA

UV燈壽命

每天使用可用8-10年

適用電壓

230V,0.6A,50Hz//opt.(110V,1.2A,60Hz)

大運(yùn)行時(shí)間

59分59秒

安全特點(diǎn)

安全聯(lián)鎖,高溫報(bào)警,高溫?cái)嚯姡?/span>

托盤(pán)尺寸

120x120mm

大樣品尺寸

100x100mm

總尺寸

長(zhǎng)204mm、高227mm、寬300mm

在紫外線(xiàn)臭氧清洗前水滴在OTS-treated硅基質(zhì)上(300nm二氧化硅表面)(左)紫外臭氧清洗10分鐘后(右)。


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